本研究では、マイクロ波励起プラズマ生起高密度ラジカルを金属・半導体表面に照射し、化学反応に伴う生成熱により急峻かつ高温加熱するための基礎実験を行った。メタン/水素混合プラズマ照射によりDLC（ダイヤモンドライクカーボン）薄膜合成や、シリコン基板の炭化を試み、各種分光計測から物性を明らかにした。
（「マイクロ波励起プラズマ照射による半導体基板の高速高温加熱処理に関する研究」　材料　山梨大学工学部応用化学コース/先端材料理工学科　佐藤　哲也）

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